Etude

[ETUDE] SoonJung pH 5.5 Relief Toner

ETUDE köp 2 betala för 1! Rabatten läggs till i varukorgen

Size

200ml

350ml

288 kr

Lägsta pris 30 dagar 231 SEK

Storlek: 200 ml / 350 ml

Etude Soon Jung pH 5.5 Relief Toner är ett måste för känslig hud. Denna toner lugnar och återfuktar huden direkt efter rengöring och skyddar mot yttre miljöföroreningar.

Formulan innehåller panthenol, madecassosid och kylande ingredienser, vilket gör den hypoallergen och skonsam för känslig hud.

Panthenol främjar läkning av små hudskador, minskar inflammation och återfuktar effektivt. Den skyddar även huden från fuktförlust och lugnar klåda och rodnad. Madecassosid från centella asiatica lugnar och reparerar huden.

Soon Jung pH 5.5 Relief Toner hjälper huden att bibehålla sin balans och hälsa. Med ett pH på 5,5 är den idealisk för hudens naturliga tillstånd.

Vegansk, doftfri och hypoallergen.

Toner används efter rengöring. Den tillför fukt till ansiktet, återställer pH-balansen och förbereder huden för nästa steg i hudvårdsrutinen. Fuktgivande toners ska klappas in i huden med händerna, exfolianter ska appliceras med en bomullspad.

Om irritation uppstår, pausa användningen och kontakta en hudläkare vid behov. Endast för utvärtes bruk. Använd inte på skadad hud. Förvara produkten skyddad från solljus. Förvara utom räckhåll för barn. Undvik kontakt med ögonen. Skölj noggrant med rikligt med vatten om produkten kommer i kontakt med ögonen.

Water, Propanediol, Glycerin, Betaine, Panthenol, 1,2-Hexanediol, Polyglycerin-3, Ethylhexylglycerin, Disodium Edta, Carbomer, Madecassoside, Butylene Glycol, Scutellaria Baicalensis Root Extract, Tocopherol, Camellia Sinensis Leaf Extract

Om det har skett/pågår förändringar i produktens sammansättning kan ingredienserna i produkterna skilja sig från vad som står på sidorna. I vissa fall kan sidorna också visa en koreansk ingredienslista, i vilket fall ingredienserna listas i en annan ordning. Kontrollera alltid de senaste ingredienserna direkt på förpackningen eller kontakta vår kundtjänst.